Quorum臨界點(diǎn)干燥儀

K850臨界點(diǎn)干燥機(jī)是我們產(chǎn)品系列中的較新產(chǎn)品，它具有垂直腔室和內(nèi)置的加熱和冷卻功能。較大的K850WM  型號(hào)是為半導(dǎo)體應(yīng)用設(shè)計(jì)的，將干燥6英寸的晶片。

K850臨界點(diǎn)干燥機(jī)兼具多功能性和易操作性。內(nèi)置的熱電加熱和絕熱冷卻可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的溫度控制。垂直壓力腔（直徑32毫米x 47毫米）有一個(gè)側(cè)面觀察口，可在填充過(guò)程中清楚地看到液體彎月面。電磁攪拌器可確保在過(guò)程流體的較好混合和交換。

主要特征

• 帶有頂部填充和底部排放的垂直腔
• 側(cè)面觀察口-良好的視野
• 內(nèi)置絕熱冷卻和熱電加熱-準(zhǔn)確的溫度控制
• 精細(xì)控制的針閥壓力降低-準(zhǔn)確的減壓控制避免了壓力釋放不受控制對(duì)標(biāo)本的潛在損害
• 內(nèi)置磁力攪拌器-增強(qiáng)了溶劑交換
• 帶有安全保險(xiǎn)開(kāi)關(guān)的壓力監(jiān)控，用于過(guò)壓

K850臨界點(diǎn)干燥機(jī)配有熱電加熱和絕熱冷卻，在加熱過(guò)程中將溫度控制在+ 5°C冷卻和+ 35°C。這樣可以對(duì)腔室進(jìn)行預(yù)冷卻，并確保準(zhǔn)確獲得臨界點(diǎn)。

K850配有三個(gè)閥：流體入口，沖洗和排氣系統(tǒng)，該系統(tǒng)使用針閥在臨界點(diǎn)干燥過(guò)程結(jié)束時(shí)提供受控的壓力釋放。 

內(nèi)置的磁力攪拌器可確保將樣品與循環(huán)液充分混合。

標(biāo)本架

標(biāo)準(zhǔn)樣品架具有12個(gè)單獨(dú)的孔（直徑8毫米x高8毫米），可輕松交換和轉(zhuǎn)移到K850。對(duì)于較大的樣本，建議使用可選的EK4150散裝樣本架（單個(gè)大樣本容器）。

對(duì)于臨界點(diǎn)干燥，非常小的或易碎的樣品，可以使用可選的CPD800A多孔罐。

Quorum臨界點(diǎn)干燥儀

包含：

垂直腔室，高度32 mm，直徑47 mm，帶玻璃觀察孔和安全防護(hù)罩。

電磁攪拌器位于腔室底部下方。

可控制的絕熱冷卻和加熱，帶有數(shù)字讀數(shù)。

CO ₂  入口閥，沖洗閥和排氣系統(tǒng)以及高壓CO ₂  耦合軟管。

AL800019-1標(biāo)本架。

操作手冊(cè)。