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光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計(jì)的革命性解決方案 產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì)： 快速固化技術(shù)（FC）：專為 200 nm 以下微細(xì)結(jié)構(gòu) 優(yōu)化，即使低強(qiáng)度紫外光源（如 LED）也能實(shí)現(xiàn)高效固化，顯著提升生產(chǎn)效率。 Excellence刻蝕穩(wěn)定性：相比標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)（mr-NIL210），對(duì) SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強(qiáng)，圖案轉(zhuǎn)移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

高分辨率：支持 ＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實(shí)現(xiàn)200nm柱陣列）。 量產(chǎn)適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩(wěn)定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實(shí)現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實(shí)現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。

Transene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠，高純度緩沖HF蝕刻劑，適用于熱生長(zhǎng)或沉積的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蝕刻劑是半導(dǎo)體應(yīng)用的理想選擇，它能夠最小化蝕刻不足的情況，并具有廣泛的兼容性。緩沖氧化物蝕刻劑標(biāo)準(zhǔn)發(fā)貨時(shí)不含表面活性劑?？筛鶕?jù)要求添加非PFAS表面活性劑。

KemLab光刻膠 TRANSIST系列產(chǎn)品與大多數(shù)濕法蝕刻液具有出色的兼容性，為微電子應(yīng)用提供可靠、高分辨率的解決方案。TRANSIST提供正性和負(fù)性兩種工作方式的光敏抗蝕劑，

納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉(zhuǎn)移設(shè)計(jì)的紫外光固化解決方案。自粘附配方，無需底涂，專為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設(shè)計(jì)。

mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。